化学开封机：
化学开封机通过酸腐蚀芯片表面覆盖的塑料能够暴露出任何一种塑料IC封装的芯片。去除塑料的过程快速安全，成本较低。整个腐蚀过程是在一定压力下的惰性气体中完成的，不但降低了金属氧化过程，等离子开封机，还减少了废气的产生。
化学开封机性能指标：
酸的温度范围：20℃~250℃。
温度调整精度：1.0℃±0.1℃。
处理样品尺寸：＜22*22mm。
激光开封的方法主要应用场合：
(1) 半导体器件的失效分析开封。塑封材料的和去除，取代传统的低效率化学品开封，解决化学品开封对铜线及内部器件的破坏。
(2) 塑封工艺设计和工艺参数有效性的验证。解决X射线无法检测铝线塑封后冲丝塌陷的问题，使完全开封后对铜线金线的打线点的仔细观察成为可能。
(3) 应用于模块使用厂家，进料检验时完全打开器件以观察内部是否存在设计或生产缺陷。
激光开封机性能指标：
功率调节范围：10%~。
光束直径：7~8mm。
光束质量：1.3~1.7。
芯片开封就是给芯片做手术，通过开封我们可以直观的观察芯片的内部结构，等离子开封机设备，开封后可以结合OM分析判断样品现状和可能产生的原因。Decap即开封，也称开盖，开帽，指给完整封装的IC做局部腐蚀，等离子开封机厂家，使得IC可以暴露出来，同时保持芯片功能的完整无损， 保持 die， bond pads，等离子开封机价格， bond wires乃至lead不受损伤， 为下一步芯片失效分析实验做准备，方便观察或做其他测试（如FIB，EMMI），Decap后功能正常。
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